EDA设计中的时序分析(最实用专题)

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本期论题： EDA设计中的时序分析(最实用专题)

主持人引言： 随着半导体工艺向0.18μm以下迈进，深亚微米效应开始对设计产生影响。这种效应可以归纳为两类：一类对设计功能产生影响，称为信号完整性(Signal Integrity)，它包括串扰Cross Talk与和IR Drop压降；一类对设计可靠性产生影响，它包括电子迁移、沟道热电子等。

串扰的产生主要是由于相邻信号线间距缩小，造成彼此之间耦合电容增大，从而导致信号转换(Transition).........

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专家：萧幸全 (Cadence公司亚太区技术市场经理)
专家观点：深亚微米设计面临的挑战及EDA新技术新趋势

目前，IC设计业界已广泛采用综合及布局布线方法，同时静态时序分析(STA)也在设计是否满足所希望的时序要求方面发挥越来越重要的作用。随着技术先进性的提升，各种产品的应用都需要更小更快的芯片，这进一步推动IC市场向深亚微米工艺演进。从8年前的1.2um到今天的0.13um工艺，相对于门延时(gate delay), 实际走线延时(wi......查看全部

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